中國電子西部智谷1項目總占地面積近300畝，分兩期建設，總建築面積27萬平方米，總投資654.38+0.5億，分四年建成。項目1.1期為工業廠房，分為甲類26層單層鋼結構廠房、乙類13多層框架廠房、1展示中心、1創新中心兩種類型。項目1.2期包括R&D寫字樓、雙創中心(OVU)和智能公寓。二期項目包括星級酒店、SOHO/LOFT、商業街等，可滿足入園企業的生產生活需求。。
目前均價:4500元/平米。
該房產位於:霍星大道3號西智谷。
目前銷售狀況:在售。
物業類型:商業-商鋪。
物業擁有期:寫字樓和商鋪:50年。
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